華升納米的真空鍍膜機(jī)在技術(shù)創(chuàng)新方面有哪些突破？

廣東華升納米科技股份有限公司2025-10-28

華升納米始終將技術(shù)創(chuàng)新視為企業(yè)發(fā)展的驅(qū)動(dòng)力。在真空鍍膜機(jī)領(lǐng)域，公司不斷優(yōu)化設(shè)備結(jié)構(gòu)與工藝控制算法，率先實(shí)現(xiàn)了高離化磁控濺射（HiPIMS）和電弧結(jié)合的一體陰極技術(shù)，實(shí)現(xiàn)更高沉積速率與更致密的薄膜性能。此外，華升納米新款電弧設(shè)備通過(guò)自主研發(fā)的智能監(jiān)控系統(tǒng)，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)鍍膜參數(shù)，確保涂層均勻性與可重復(fù)性。公司還在涂層材料方面積極探索，如DLC類(lèi)、TiAlN類(lèi)及多層復(fù)合膜的創(chuàng)新應(yīng)用，為不同行業(yè)提供定制化解決方案。這些技術(shù)突破不提升了設(shè)備的綜合性能，也讓華升納米在國(guó)內(nèi)外鍍膜設(shè)備制造領(lǐng)域保持地位。

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