618光電行業ITO**蝕刻液,專門針對氧化銦錫(ITO)玻璃導電薄膜鍍層圖線的脫膜蝕刻,它對于高阻抗ITO玻璃導電膜(PET-ITO)以及低阻抗ITO玻璃導電膜(PET-ITO)都且有優良的蝕刻速度與效果。具有速度快、側蝕小、無沉淀、氣味小、不攻擊抗蝕層,不攻擊基材,操作控制簡便靈活等非常***的優點,可采取自動控制系統補加,也可人工補加方式。更重要的是絲毫不改變產品的導電阻抗電性數據。二、產品特點1)速度快市場之一般ITO蝕刻液速度大都在0.5nm/s,而KBX-618AITO蝕刻液蝕刻速度正常控制在2-10nm/s,速度快(具體設備情況有所差異)2)氣味小、無煙霧、對皮膚刺激*目前市場蝕刻液一般有強烈之氣味,溫度升高后放出一種刺鼻氣味,對操作人員身體健康和工作環境極為不利,但KBX-618A酸性蝕刻液采用的是有機活性添加劑3、用于有機基材膜,及各類玻璃底材,不影響生產材料導電阻抗數據。不攻擊底材,不攻擊抗蝕膜。KBX-556ITO**褪膜液一、產品簡介KBX-556引進國外配方,采用進口原料,非常規易燃溶劑,即非有毒醇醚硫等物質,是采用環保的極性活性劑,可以有效、快速地去除水溶性干膜,在板面不會留下殘渣。在褪極細線寬線距板時效果尤其明顯,不會攻擊聚酰亞胺,PET,ITO,硅晶體,液晶屏,及弱金屬。蘇州博洋生產BOE蝕刻液。上海BOE蝕刻液蝕刻液按需定制

本發明涉及一種用來在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法。背景技術:以往,在蝕刻鈦時一直使用含有氫氟酸或過氧化氫的蝕刻液。例如專利文獻1中提出了一種鈦的蝕刻液,該鈦的蝕刻液是用來在銅或鋁的存在下蝕刻鈦,并且該蝕刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的過氧化氫、%至5重量%的磷酸、%至%的膦酸系化合物及氨所構成的水溶液將pH值調整為7至9。但是,含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問題,含有過氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩定性的問題。現有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特許第4471094號說明書。技術實現要素:發明所要解決的問題本發明是鑒于所述實際情況而成,其目的在于提供一種蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法,所述蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦,而且毒性低,保存穩定性優異。解決問題的技術手段本發明的蝕刻液是為了在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦而使用,并且含有:選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸;以及選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機硫化合物。所述硫酮系化合物推薦為選自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。天馬用的蝕刻液蝕刻液請認準蘇州博洋化學股份有限公司。

也很難保證拖車在地磅頂部不移動。在地磅的頂部平臺中設置有兩條卡塊40,卡塊與平臺之間形成一插槽,在地磅的頂部設置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動夾緊機構,壓緊塊位于插槽中,氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連。拖車的邊緣沿插槽插入后,氣缸帶動壓緊塊下行將拖車緊緊壓在地磅的頂部。實施例二本實施例基于實施例一。如圖2所示,在拖車的頂部設置有一圈圍設在儲存罐外部的護欄70,以防止其它物品碰撞儲存罐。實施例三本實施例基于實施例一。如圖3所示,在拖車的頂部設置有一集液盒,儲存罐安裝在集液盒80中,過濾器的出液管及灌裝頭的快速接頭從儲存罐中拔出時滴落的鋁蝕刻液,由集液盒進行收集。實施例四本實施例基于實施例一。如圖4所示,拖車的頂部于儲存罐的旁側設置有集液腔室22,過濾器的出液管及灌裝頭的快速接頭從儲存罐中拔出時滴落的鋁蝕刻液被集液腔室內收集。綜上所述,將原有的大型儲存罐更換成數個小型儲存罐,并采用液壓升降式拖車帶著儲存罐在鋁蝕刻液生產車間與自動灌裝車間之中周轉,如此便可為鋁蝕刻液生產設備配備全自動灌裝線,即提高了單瓶灌裝精度和效率,又降低了企業的人力成本投入;而且,將原有的大型儲存罐更換成數個小型儲存罐。
將蝕刻液通過回流管抽入到一號排液管中,并由進液管導入到伸縮管中,直至蝕刻液由噴頭重新噴到電解池中,可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉化為金屬銅,起到循環電解蝕刻液的作用;該回收處理裝置通過設置有伸縮管與伸縮桿,能夠在蝕刻液通過進液管流入到電解池中時,啟動液壓缸帶動伸縮桿向上移動,從而通過圓環塊配合伸縮管帶動噴頭向上移動,進而將蝕刻液緩慢的由噴頭噴入到電解池中,避免蝕刻液對電解池造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護電解池的功能;該回收處理裝置通過設置有集氣箱與蓄水箱,能夠在電解蝕刻液結束后,啟動抽氣泵,將電解池中產生的有害氣體抽入到排氣管并導入到集氣箱中,實現有害氣體的清理,接著啟動增壓泵并打開三號電磁閥,將蓄水箱中的清水通過抽水管抽入到進液管中,將裝置主體內部的蝕刻液進行清洗,具有很好的清理作用。附圖說明圖1為本發明的整體結構示意圖;圖2為本發明的內部結構示意圖;圖3為本發明圖2中a的示意圖;圖4為本發明圖3的整體示意圖;圖5為本發明電解池的結構示意圖。圖中:1、裝置主體;2、分隔板;3、承載板;4、電解池;5、隔膜;6、進液漏斗;7、過濾網;8、進液管;9、伸縮管;10、噴頭;11、液壓缸。蝕刻不同金屬用到的蝕刻液一樣嗎?

將裝置主體1內部的蝕刻液進行清洗,具有很好的清理作用。工作原理:對于這類的回收處理裝置,首先將蝕刻液倒入進液漏斗6并由過濾網7過濾到進液管8中,之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時,啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動,從而通過圓環塊13配合連接桿14和伸縮管9帶動噴頭10向上移動,進而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,避免蝕刻液對電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護電解池4的功能,之后金屬銅在隔膜5左側析出;其次在蝕刻液初次電解后,通過控制面板30啟動增壓泵16并打開一號電磁閥18,將蝕刻液通過回流管15抽入到一號排液管17中,并由進液管8導入到伸縮管9中,直至蝕刻液由噴頭10重新噴到電解池4中,可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉化為金屬銅,起到循環電解蝕刻液的作用,然后打開二號電磁閥23,將蝕刻液通過二號排液管22導入到分隔板2左側,傾斜板24使得蝕刻液向左流動以便排出到裝置主體1外,接著啟動抽氣泵19,將電解池4中產生的有害氣體抽入到排氣管20并導入到集氣箱21中,實現有害氣體的清理,緊接著打開活動板25將金屬銅取出,之后啟動增壓泵16并打開三號電磁閥29,將由進水管27導入到蓄水箱26中的清水。蝕刻液的的性價比、質量哪家比較好?安徽哪家蝕刻液蝕刻液費用是多少
蝕刻液蝕刻后如何判斷好壞 ?上海BOE蝕刻液蝕刻液按需定制
本發明涉及銅蝕刻液技術領域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產工藝。背景技術:高精細芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結構所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中,產物親和、友好、環境污染少,刻蝕效率高且使用壽命較長的特點。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分、參與溶解的無機酸/有機酸組分,以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個部分。由于銅蝕刻液中各物質的反應為放熱反應,體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產過程中需要保證生產安全。技術實現要素:本發明的目的在于,克服現有技術中存在的缺陷,提供一種銅蝕刻液大規模量產的生產工藝,該生產工藝溫控嚴格,生產過程中安全性高。為實現上述目的,本發明的技術方案是設計一種酸性銅蝕刻液的生產工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;第二步:配制和準備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對應的原料罐中,經過過濾器循環過濾,備用。上海BOE蝕刻液蝕刻液按需定制