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    來源: 發布時間:2025-10-31

    etchingamount)的相互關系的圖表。具體實施方式本發明人確認了用于氮化物膜去除工序用蝕刻液組合物的具有防蝕能力的添加劑在滿足特定參數值時能夠使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜且不損傷氧化物膜的效果極大化,從而完成了本發明。本發明包括選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*將氮化物膜選擇性去除的能力優異的添加劑的方法、由此選擇的添加劑、包含上述添加劑的蝕刻液組合物以及利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。本發明中,蝕刻對象膜可以為氮化物膜,保護對象膜可以為氧化物膜。此外,本發明的上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯劑。<蝕刻液組合物>具體而言,本發明可以包含磷酸、添加劑和水,上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯劑。本發明的上述添加劑的特征在于,使上述添加劑的反應位點(activesite)的數量除以上述添加劑的水解(hydrolysis)了的形態的分子量之后乘以(參照以下數學式)滿足。本發明中,各添加劑的反應位點(activesite)的數量和添加劑的水解(hydrolysis)了的形態的分子量的例子示于表3中。此外,由此計算的各添加劑的aeff值和與此有關的蝕刻程度的例示示于表2中。參照上述結果,可以確認到上述添加劑的aeff值推薦滿足。BOE蝕刻液的主要成分。綿陽鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液費用是多少

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    更推薦滿足。參照圖4,在添加劑(硅烷系偶聯劑)的aeff處于,能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良**少化,在硅烷系偶聯劑的aeff處于,能夠使氧化物膜損傷不良**少。因此,在利用上述范圍所重疊范圍(規格(spec)滿足區間)即aeff為2以上,能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內的情況下,上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力,由此,即使沒有消耗費用和時間的實際的實驗過程,也能夠選擇具有目標防蝕能力的硅烷系偶聯劑等添加劑。本發明的上述硅烷系偶聯劑等添加劑推薦按照保護對象膜(氧化物膜)的蝕刻程度(etchingamount,e/a)滿足以上以下的范圍的濃度來添加。例如,對于包含氧化物膜(例如,sio2)和上述氧化物膜上的氮化物膜(例如,sin)的膜在160℃以添加劑濃度1000ppm基準處理10,000秒的情況下,推薦按照保護對象膜的蝕刻程度(etchingamount,e/a)滿足以上以下的范圍的濃度添加。本發明的添加劑的防蝕能力可以通過上述添加劑的aeff值與濃度之積來計算,由蝕刻程度(etchingamount,e/a)來表示。蝕刻程度的正的值表示蝕刻工序后厚度增加。廣州市面上哪家蝕刻液產品介紹蝕刻液的是怎么進行分類的。

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    所述有機硫化合物具有作為還原劑及絡合劑(chelate)的效果。作為所述硫酮系化合物,例如可舉出硫脲、N-烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N,N-三烷基硫脲、N,N,N,N-四烷基硫脲、N-苯基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N,N-二苯基硫脲及亞乙基硫脲等。烷基硫脲的烷基并無特別限制,推薦為碳數1至4的烷基。這些硫酮系化合物中,推薦使用選自由作為還原劑或絡合劑的效果及水溶性優異的硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。作為所述硫醚系化合物,例如可舉出甲硫氨酸、甲硫氨酸烷基酯鹽酸鹽、乙硫氨酸、2-羥基-4-(烷硫基)丁酸及3-(烷硫基)丙酸等。烷基的碳數并無特別限制,推薦為碳數1至4。另外,這些化合物的一部分也可經取代為氫原子、羥基或氨基等其他基。這些硫醚系化合物中,推薦為使用選自由作為還原劑或絡合劑的效果優異的甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。有機硫化合物的濃度并無特別限制,推薦為%至10重量%,更推薦為%至5重量%。在有機硫化合物的濃度小于%的情況下,無法獲得充分的還原性及絡合效果,有鈦的蝕刻速度變得不充分的傾向,若超過10重量%則有達到溶解極限的傾向。

    鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100。根據查詢相關信息顯示:鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設計的化學品,STM-AL100的組成有主要蝕刻化學品,添加劑,輔助化學品,對于控制蝕刻均勻以及穩定的蝕刻速率一定的效果,在長效性的表現上更是無話可說.在化學特性上,鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學品攻擊,本化學品設計上為酸性配方且完全可被水溶解,故無須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產的用途可以調整藥液溫度來調整蝕刻速率,所以本化學品對于初次使用者來說,是簡單容易上手。哪家的蝕刻液比較好用點?

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    也不能在回收結束后對裝置內部進行清理的問題。為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,包括裝置主體,所述裝置主體內部中間位置固定安裝有分隔板,所述分隔板左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板,所述承載板上端表面放置有電解池,所述電解池內部中間位置設置有隔膜,所述裝置主體上端表面靠近右側安裝有進液漏斗,所述進液漏斗上設置有過濾網,所述裝置主體內部靠近頂端設置有進液管,所述進液管左端連接有伸縮管,所述伸縮管下端安裝有噴頭,所述裝置主體上端表面靠近左側固定安裝有液壓缸,所述液壓缸下端安裝有伸縮桿,所述伸縮桿下端固定安裝有圓環塊,所述圓環塊與噴頭之間固定連接有連接桿,所述分隔板右端表面靠近上端固定安裝有增壓泵,所述增壓泵下端與電解池之間連接有回流管,所述增壓泵上端與進液管之間連接有一號排液管,所述回流管內部左端設置有一號電磁閥,所述裝置主體左端表面靠近上端固定安裝有抽氣泵,所述抽氣泵下方設置有集氣箱,所述集氣箱與抽氣泵之間連接有排氣管,所述電解池下端連接有二號排液管,所述二號排液管內部上端設置有二號電磁閥,所述裝置主體內部底端靠近左側設置有傾斜板。選擇蘇州博洋化學股份有限公司,安心,放心,舒心。池州銅鈦蝕刻液蝕刻液聯系方式

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    以帶動該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風刀裝置40的該***風刀41下端部的方向移動。該風刀裝置40設置于該擋液板結構10的一端部,該風刀裝置40包括有一設置于該基板20上方的***風刀41,以及一設置于該基板20下方的第二風刀42,其中該***風刀41與該第二風刀42分別吹出一氣體43至該基板20,以將該基板20上的一藥液51帶往與相反于該基板20的行進方向,以使該基板20上該藥液51減少,其中該氣體43遠離該***風刀41與該第二風刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設有一第三夾角θ3,且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。此外,請一并參閱圖8與圖9所示,為本實用新型蝕刻設備其一較佳實施例的擋液板結構結合風刀裝置示意圖,以及宣泄孔的表面張力局部放大圖,其中該宣泄孔121為直通孔的態樣,當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板(本圖式未標示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結構10后部分會往該復數個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖8所示),除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現象,亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;此外。綿陽鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液費用是多少

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