本實用涉及蝕刻設備技術領域,具體為一種ito蝕刻液制備裝置。背景技術:蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術,蝕刻技術分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學試劑,經由化學反應達到蝕刻的目的,薄膜場效應晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發光二極管(led)、有機發光二極管(oled)等行業用作面板過程中銦錫氧化物半導體透明導電膜(ito)的蝕刻通常采用鹽酸和硝酸的混合水溶液。現有的制備裝置在進行制備時會發***熱反應,使得裝置外殼穩定較高,工作人員直接接觸有燙傷風險,熱水與鹽酸接觸會產生較為劇烈的反應,濺出容易傷害工作人員,保護性不足,鹽酸硝酸具有較強的腐蝕性,常規的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進行攪拌,成本過高,且混合的效果不好。所以,如何設計一種ito蝕刻液制備裝置,成為當前要解決的問題。技術實現要素:本實用新型的目的在于提供一種ito蝕刻液制備裝置,以解決上述背景技術中提出的ito蝕刻液制備裝置保護性不足、不具備很好的防腐蝕性和混合的效果不好的問題。為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:一種ito蝕刻液制備裝置,包括制備裝置主體、高效攪拌裝置和過濾除雜裝置。蘇州BOE蝕刻液的價格。安徽ITO蝕刻液蝕刻液供應

制備裝置主體1的內部中間部位活動連接有高效攪拌裝置2,制備裝置主體1的一側中間部位嵌入連接有翻折觀察板4,制備裝置主體1的底端固定連接有裝置底座5,裝置底座5的內部底部固定連接有成品罐6,裝置底座5的頂端一側固定連接有鹽酸裝罐7,裝置底座5的頂端另一側固定連接有硝酸裝罐8,高效攪拌裝置2的內部頂部中間部位活動連接有旋轉搖勻轉盤12,高效攪拌裝置2的內部頂部兩側活動連接有震蕩彈簧件14,震蕩彈簧件14的頂端固定連接有運轉電機組13,運轉電機組13的頂端電性連接有控制面板15,高效攪拌裝置2的內部中間部位固定連接有致密防腐桿16,致密防腐桿16的內部內側貫穿連接有攪動孔17,鹽酸裝罐7的內部一側嵌入連接有嵌入引流口22,嵌入引流口22的一端固定連接有負壓引流器21,負壓引流器21的一端固定連接有注入量控制容器18,注入量控制容器18的內部內側固定連接有注入量觀察刻度線19,注入量控制容器18的一側嵌入連接有限流銷20。推薦的,翻折觀察板4的內部頂部活動連接有觀察窗翻折滾輪401,觀察窗翻折滾輪401的底端活動連接有內嵌觀察窗402,該裝置在進行制備時,具有一定的危險性,工作人員無法直接對其內部的運行狀況進行很好的實時查看,通過設置內嵌觀察窗402。四川BOE蝕刻液蝕刻液生產蝕刻液用在哪些工藝段上;

提高反應體系的穩定性。當體系中加入過氧化氫后有助于提高過氧化氫的穩定性,避免由于過氧化氫分解而引發的,提高生產的安全性。具體實施方式下面結合實施例,對本發明的具體實施方式作進一步描述。以下實施例用于更加清楚地說明本發明的技術方案,而不能以此來限制本發明的保護范圍。一種酸性銅蝕刻液的生產工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;純水罐中設有通過電路控制的電磁閥,當純水溫度高于10℃時,電磁閥無法打開。第二步:配制和準備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對應的原料罐中,經過過濾器循環過濾,備用;將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應的原料罐,備用。亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸需要稀釋后使用,hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2無需調配可直接用于制備蝕刻液。第三步:根據混酸配制表算出各個原料的添加量,按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調配罐,將上述混料充分攪拌,攪拌時間為3~5h。第四步:在第三步的混料中再添加h2o2,繼續攪拌混勻,攪拌時間為3~5h,用磁力泵將混合液通過過濾器循環過濾。
近年來,oled顯示器廣泛應用于手機和平板顯示。金屬銀以優異的電導率和載流子遷移率被廣泛應用于oled顯示器的陽極布線(ito/ag/ito)結構中。為了對此進行蝕刻,目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀,但在實際使用過程中仍會存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問題。4.本發明所要解決的技術問題在于如何解決現有的銀蝕刻液在使用過程中存在少量的銀殘留、銀再吸附沉積問題。5.本發明通過以下技術手段實現解決上述技術問題的:6.一種銀蝕刻液組合物,其成分由質量占比為40-60%磷酸、2-10%硝酸、%有機酸、%硝酸鹽、%含氮元素有機物、其余為水組成。蘇州性價比高的蝕刻液。

可以維持合適的蝕刻速度且提高sin/sio2選擇比。(b)硅烷系偶聯劑本發明的蝕刻液組合物中所包含的上述硅烷(silane)系偶聯劑作為防蝕劑可以在防止包含氧化物膜和氮化物膜的膜中的氧化物膜被上述磷酸氧化時使用。上述硅烷系偶聯劑推薦使上述硅烷系偶聯劑的反應位點(activesite)的數量除以上述硅烷系偶聯劑的水解(hydrolysis)了的形態的分子量之后乘以,更推薦滿足。上述硅烷系偶聯劑推薦按照蝕刻液組合物的蝕刻程度(etchingamount,e/a)滿足以上以下的范圍的濃度來添加。上述硅烷系偶聯劑推薦為選自由原硅酸四乙酯(tetraethylorthosilicate)、雙(三乙氧基甲硅烷基)甲烷(bis(triethoxysilyl)methane)、雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(bis(triethoxysilyl)ethane)、(三乙氧基甲硅烷基)甲醇((triethoxysilyl)methanol)和(三乙氧基甲硅烷基)甲烷((triethoxysilyl)methane)組成的組中的一種以上,更推薦為選自由雙(三乙氧基甲硅烷基)甲烷、(三乙氧基甲硅烷基)甲醇和(三乙氧基甲硅烷基)甲烷組成的組中的一種以上,**推薦為(三乙氧基甲硅烷基)甲烷和/或(三乙氧基甲硅烷基)甲醇。相對于組合物總重量,上述硅烷系偶聯劑的含量為~10重量%,推薦為~%。哪家公司的蝕刻液是比較劃算的?合肥銅鈦蝕刻液蝕刻液費用是多少
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避免連接構件11的兩側與操作人員的手接觸的時候,會因操作人員的手沾濕出現手滑的情況,有效的保證了裝置內部構件的連接工作能正常的進行。推薦的,支撐腿2的底端嵌入連接有防滑紋6,在制備蝕刻液的時候,需要將裝置固定的特定的位置,通過支撐腿2將裝置主體1進行支撐固定,在支撐腿2與固定位置的接觸面接觸時,防滑紋6能增大支撐腿2的底端與固定接觸面的摩擦力,使裝置主體1能有足夠的抓地力固定在固定位置上,有效的提高了裝置固定的防滑性。推薦的,過濾部件9的內部兩側嵌入連接有過濾板26,常規的生產方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合,其分散混合性能差,蝕刻液雜質含量多,過濾板26能將蝕刻液內部的雜質進行過濾,使制備出的蝕刻液的雜質被過濾板26過濾出,得到不含雜質的蝕刻液,避免多種強酸直接共混有效的減小了蝕刻液制備的安全隱患。推薦的,過濾部件9設置有一個,過濾部件9設置在連接構件11的內側,過濾部件9與連接構件11固定連接,過濾部件9能將制備出的蝕刻液進行過濾,且過濾部件9能將內部的過濾板26進行拆卸更換,將過濾部件9的內部進行清洗,在將過濾部件9進行連接安裝時,將滑動蓋24向外側滑動。安徽ITO蝕刻液蝕刻液供應